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GAMMA-X N型同軸HPGe探測(cè)器適用于能量范圍為~3 keV及以上的高性能伽馬能譜測(cè)量。
GAMMA-X(GMX)探測(cè)器是一款同軸鍺(Ge)探測(cè)器,具有超薄入射窗口。大多數(shù)同軸探測(cè)器具有500至1000微米厚的入射窗口,但該探測(cè)器的入射窗口是一個(gè)0.3微米厚的離子注入接觸面,將較低的有用能量范圍擴(kuò)展至約3 keV。離子注入將產(chǎn)生全穩(wěn)定的接觸面,其不會(huì)隨著重復(fù)回溫循環(huán)而惡化。此外,N型HPGe探測(cè)器已經(jīng)證明能夠抵抗快中子損傷。
GAMMA-X系列特征:
GAMMA-X效率標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品可達(dá)100%,還可應(yīng)要求提高。
譜測(cè)量從3 keV向上。
超薄硼離子注入輻射窗口,是康普頓抑制系統(tǒng)的理想選擇。
抗中子損傷;用戶自修復(fù)中子損傷選件。
出色的能量分辨率和峰對(duì)稱性。
SMART偏壓選件。
惡劣環(huán)境(-HE)選件。
鈹窗口配有保護(hù)罩;鋁或碳纖維窗口選件可免費(fèi)提供。
低本底碳纖維端蓋選件。
外加前置放大器選件適用于超高計(jì)數(shù)率應(yīng)用。
巨大的配置靈活性,PopTop、Streamline和機(jī)械冷卻選項(xiàng)。